STMicroelectronics N-Kanal-PowerMESH-Leistungs-MOSFETs
DieSTMicroelectronics N-Kanal-PowerMESH-Leistungs-MOSFETs werden mit dem konsolidierten Streifenlayout basierend auf dem MESH OVERLAY™ Prozess von STMicroelectronics hergestellt. Dieser Prozess bringt eine fortgeschrittene Produktfamilie von Hochspannungs-Leistungs-MOSFETs mit hervorragender Leistung hervor. Das optimierte Layout zusammen mit der proprietären Randabschlussstruktur bietet den niedrigsten RDS(on) pro Bereich, eine Gateladung und Schaltereigenschaften, die konkurrenzlos sind.Merkmale
- 100% avalanche tested
- Intrinsic capacitances and Qg minimized
- High-speed switching
- Fully isolated TO-3PF plastic packages
- Creepage distance path is 5.4mm (typ.) for TO-3PF
Applikationen
- Switching applications
Veröffentlichungsdatum: 2016-02-15
| Aktualisiert: 2022-03-11
